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磁控溅射用金属及合金靶材

发布时间 : 2016-05-21     来源 : 威尼斯城娱乐官方平台资讯中心

产品概况:
  航天材料及工艺研究所研制的磁控溅射靶材是制备薄膜材料的关键材料。
  溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层、装饰镀膜、太阳能光伏、功能刀具等方面都得到了广泛的应用。
  航天材料及工艺研究所依托航天技术优势、设备优势,针对市场需求,开发了Cr平面靶、Cr旋转靶、TiAl、SiAl、CrAl、Mo合金等靶材产品。具有密度高、晶粒细小、成分均匀、镀膜连续性好等优点,在国内同类产品中处于领先地位。特别是率先在国内生产出具有完全自主常识产权的Cr热等静压旋转靶,填补了国内该领域空白。

 

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